接下來兩天，主樓會議室的門，幾乎從未關閉。

煙霧繚繞的空氣裡，混合著鋼筆劃過紙張的沙沙聲、激烈的辯論聲、偶爾因找到思路而提高的興語調，以及暖氣管片單調卻持續的嗡鳴。

討論進了真正的深水區。

不再僅僅是確定“五微米”這個目標，而是圍繞著如何實現它、穩定它，以及看清下一步的路徑，展開了一場場及筋骨的“技解剖”。

刻技本，被拆解一個個子系統。

學部的張工將一疊厚厚的像差分析資料拍在桌上：“球差、彗差、像散、場曲……我們的復消差鏡設計理論沒問題，但加工裝配的累積誤差讓這些‘魔鬼’全跑出來了。尤其是這個場曲，視場邊緣的像質塌陷得厲害，導致晶片邊緣的圖形永遠比中心的模糊、變形。”

他指向一張學傳遞函式曲線圖，邊緣視場的曲線就像力不支般早早垂下了頭。“不解決這個，五微米工藝的均勻就是空談。我們需要更的定心磨邊機，需要裝配環境恆溫恆溼，更需要一套嚴格的裝調檢測流程，而不是靠老師傅‘覺’對上了就行。”

機械室的王工接著攤開工作臺的運誤差分析圖，那上面用不同的線條標註著定位誤差、直線度誤差、角度擺誤差，像一幅象的、令人頭疼的地形圖。

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