所以GF1的實際應用不會太大，更多的還是用在諸多專案的前期測試，說白了，該晶片和十奈米工藝本是屬於過度工藝一樣，都是屬於過度晶片。

為什麼過渡產品還專門設計並生產啊，因為這種專業晶片總得先設計嘗試一番，積累一些經驗，然後才能夠進行修改吧。

十奈米工藝雖然也貴的，但是比七奈米工藝便宜太多了……不用十奈米工藝來進行測試，回頭用七奈米工藝測試更虧。

真正後續大規模使用的國防通用算力晶片，其實是還在設計當中的GF2晶片！

等到GF2晶片設計完，並生產後，一大票保級別非常高的人工智慧專案，才談得上進行最後的設計定型，並考慮量產。

等效十奈米工藝和等效七奈米工藝之間，別看數字差不多大小，但是實際效能差距非常大。

智雲微電子的等效十奈米工藝，電晶度是五千多萬每平方毫米，其實也沒比十四奈米工藝、十二奈米工藝多多，智雲微電子的十四奈米工藝，形狀電晶度都能做到四千多萬呢。

智雲微電子的等效十奈米工藝，依舊是十四奈米工藝的延，都是建立雙重曝這一核心技上的。

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